美国商务部长霍华德·卢特尼克在2026年与荷兰光刻设备制造商ASML高层多次会谈时，表示一台极紫外光刻（EUV）机可能已被运往中国，违反美国主导的出口限制规定，这些限制始于特朗普政府时期 [1, 2, 3, 4, 5, 6]。
ASML回应坚决否认所有指控，发言人表示“ASML从未向中国运送过任何EUV机或专门用于EUV机的零部件、模块及设备”，并称相关指控“事实不符，且严重误导” [3, 7, 8, 4, 9, 10, 11, 12, 6]。ASML还强调其EUV机重约180吨，体积如一辆校车，产量有限，且需要ASML技术人员持续维护，非授权运输难以实现 [3, 4, 9, 10, 11, 12, 6]。
美国高级官员声称拥有证据显示ASML向中国出口过用于运输EUV设备的专用工具及部分可用于EUV系统的组件，但未公开具体证据细节 [3, 8, 9, 10, 11, 12]。与此同时，ASML内部2026年4月起草的文件指出，全球运行的314台EUV机中无一台在中国，且该公司能实时监控所有设备的运行状态，客户无法自行拆解或转移机器 [7, 8, 10, 11]。
有报道披露，中国科学家在前ASML工程师的参与下研发出一种EUV光刻机原型，被称为“中国版曼哈顿计划”，但性能远不及ASML的正式产品 [4, 5, 10, 11, 12, 6]。
市场数据方面，2026年第一季度中国从荷兰进口光刻设备同比下降24.3%，ASML预计2026年中国市场销售额将占其总收入的20%，较2025年的33%显著下滑 [7, 10, 11]。
此外，美国国会于2026年4月提出MATCH法案，要求包括荷兰和日本在内的盟国严格执行美国出口管制，扩大限制范围覆盖除EUV外的浸入式深紫外（DUV）光刻设备，以阻止中国获得先进芯片制造技术 [7, 10, 11]。
相关争议加剧了美欧之间的外交紧张。ASML发言人表示公司“定期与全球政府领导人公开透明地沟通”，致力于遵守相关出口法规 [7]。美国方面则继续表示关注。
